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산업 삼성전자-ASML, 1조원 규모 공동 투자···SK하이닉스는 EUV용 수소 가스 기술 공동 개발

산업 전기·전자

삼성전자-ASML, 1조원 규모 공동 투자···SK하이닉스는 EUV용 수소 가스 기술 공동 개발

등록 2023.12.13 07:44

수정 2023.12.14 08:40

안민

  기자

이재용 부회장, 최내원 회장, 네덜란드 ASML 본사 방문피터 베닝크 ASML CEO, 벤자민 로 ASM CEO 등 기업인과 간담회30분간 반도체 산업의 미래와 한국과의 협력을 주제로 전략 대화

삼성전자와 ASML이 1조원 규모 R&D센터를 한국에 설립하는 양해각서를 체결했다. SK하이닉스 역시 ASML과 EUV용 수소 가스 재활용 기술 공동 개발 MOU를 맺었다. 이로써 양국은 반도체 산업과 관련해 ASML과 전략적 연대를 더욱 견고히 하게 됐다.

네덜란드를 국빈 방문한 윤석열 대통령이 12일(현지시간) 벨트호벤 소재 ASML 본사에서 열린 한-네덜란드 반도체 기업인 간담회에서 발언하고 있다. 아래쪽부터 시계방향으로 박춘섭 경제수석, 조태용 국가안보실장, 박진 외교장관, 안덕근 통상교섭본부장, 뤼크 반 덴 호버 IMEC 대표, 최태원 SK그룹 회장, 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO), 윤 대통령, 빌럼-알렉산더르 국왕, 이재용 삼성전자 회장, 안드레아스 페처 ZEISS SMT 대표 사진=연합뉴스 제공네덜란드를 국빈 방문한 윤석열 대통령이 12일(현지시간) 벨트호벤 소재 ASML 본사에서 열린 한-네덜란드 반도체 기업인 간담회에서 발언하고 있다. 아래쪽부터 시계방향으로 박춘섭 경제수석, 조태용 국가안보실장, 박진 외교장관, 안덕근 통상교섭본부장, 뤼크 반 덴 호버 IMEC 대표, 최태원 SK그룹 회장, 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO), 윤 대통령, 빌럼-알렉산더르 국왕, 이재용 삼성전자 회장, 안드레아스 페처 ZEISS SMT 대표 사진=연합뉴스 제공

이재용 삼성전자 회장과 최태원 SK회장은 12일(현지시간) 네덜란드 벨트호벤에 위치한 ASML본사를 방문해 기업인 간담회에 참석했다. 이날 간담회에는 윤석열 대통령을 비롯해, 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO), 벤자민 로 ASM 최고경영자(CEO) 등 네덜란드 측 기업인들이 참석했다.

이자리에서 삼성과 ASML은 향후 1조원을 투자해 반도체 연구 개발 센터를 한국에 건설하기로 했고, SK하이닉스는 생산 과정에서 전력 소비를 획기적으로 줄이는 수소 자원 친환경 공정을 함께 개발하기로 약속했다.

또 내년 2월에는 ASML 주도로 한·네덜란드 대학원생 엔지니어가 함께 참여하는 첨단 반도체 아카데미가 개설되는데, 양국이 함께 인재를 키워낸다는 점에서 의미가 큰 것으로 알려졌다.

기업인들은 약 30분간 이어진 간담회에서 반도체 산업의 미래와 한국과의 협력을 주제로 전략 대화를 이어갔다.

이재용 삼성전자 회장은 "세계 무역의 토대를 만들고 증권 시장을 처음으로 개장한 네덜란드에서도 가장 대표적인 혁신의 상징인 ASML과 전략적 파트너십을 강화해 나가고 있다"면서 "빌럼-알렉산더르 네덜란드 국왕의 한국 방문을 많은 국민들과 함께 기다리고 있다"고 말했다.

최태원 SK그룹 회장은 "내년부터 SK하이닉스도 ASML과 반도체 연구기관 아이맥(IMEC) 공동의 차세대 EUV 개발사업에 함께 참여해 인공지능(AI) 시대에 대비한 고성능 반도체 개발을 본격화하겠다"고 밝혔다.

터 베닝크 ASML CEO는 "화성의 반도체 장비 클러스터 '뉴 캠퍼스'와 한국 기업과의 MOU 등 한국과의 반도체 연대가 크게 강화되고 있다"며 "최근 기술 난도 상승으로 개발 비용이 급등한 만큼, 정치·경제·인력을 아우르는 국가 간 협업이 중요하다"고 강조했다.

벤자민 로 ASM CEO 역시 최근 한국에서 두 번째 공장 건설을 시작했다고 언급하며 앞으로도 지속해서 협력을 확대하겠다고 말했다.

루크 반 덴 호브 IMEC CEO는 삼성·SK 등 한국 기업과의 파트너십 확대를 강력히 희망한다고 말했고, 안드레아스 페허 자이스(ZEISS) CEO는 향후 한국과의 협력 관계를 반도체를 넘어 자동차, 의료 분야로 확장해가고 싶다고 밝혔다.

간담회 후에는 ASML의 클린룸 생산라인을 방문해서 ASML이 새로 개발한 차세대 EUV 장비 생산 현장을 둘러봤다.

이날 세계 최초로 전체 모습이 공개된 차세대 EUV 장비는 2나노미터(nm·1nm는 10억분의 1m) 이하 최첨단 반도체 생산에 투입되며, 기존 EUV 장비보다 해상도가 높아 선폭이 좁은 반도체를 쉽게 생산해낼 수 있는 것으로 알려졌다.
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