코스맥스는 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법 관련 특허권을 취득했다고 28일 공시했다.
회사 측은 "본 발명에 의한 레진은 자체적으로는 고온에서의 안정성, 자외선에 의한 산화 안정성, 통기성 및 접착성을 갖는다"며 "화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성, 유연성 및 지속성이 우수한 게 특징"이라고 설명했다.
특허는 향후 생산될 제품에 사용될 예정이다.
회사 측은 "본 발명에 의한 레진은 자체적으로는 고온에서의 안정성, 자외선에 의한 산화 안정성, 통기성 및 접착성을 갖는다"며 "화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성, 유연성 및 지속성이 우수한 게 특징"이라고 설명했다.
특허는 향후 생산될 제품에 사용될 예정이다.
뉴스웨이 천진영 기자
cjy@newsway.co.kr
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